HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強光刻膠和襯底表面的粘附力。

光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS（六甲基二硅氮烷，增粘劑）預處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅膜。

HMDS預處理作用:

增強光刻膠和襯底表面的粘附力;

實現方法:浸泡、涂覆、氣相處理（即HMDS烘箱）等。

HMDS預處理烘箱

   JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下，達到真空狀態后開始涂布工藝，涂布完成后排出尾氣，烘箱內部充入N2，達到常壓后方可開門。

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤1torr

控制儀表：人機界面，一鍵運行

儲液瓶：HMDS儲液量1000ml 

真空泵：無油渦旋真空泵

數據處理：多個工藝方案，可修改并記錄，使用數據可記錄

保護裝置： 低液位報警，HMDS藥液泄漏報&警，超溫保護并斷開加熱，超溫保護，漏電保護，過熱保護等

涂膠

作用:a.轉移掩模版圖形到襯底的介質b刻蝕工藝中保護襯底;實現方法:浸泡、旋轉、噴霧、刷膠等:

前烘

b.蒸發溶劑;作用:a.增強粘附性實現方法:真空熱板85~120C處理。

曝光

作用:將掩模版圖形轉移到襯底表面;實現方法:接觸式、接近式、投影式。

后烘

作用:a.減少駐波效應

        b.使光刻膠更易溶于顯影液:實現方法:熱板或烘箱等110-130C處理。

顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實現方法:浸泡、旋轉浸泡、旋轉噴霧

堅膜

作用:a.進一步減少駐波效應 

        b.進一步增強抗刻蝕能力;實現方法:熱板或堅膜烘箱等100-130C處理