疏水處理蒸鍍機程控偶聯(lián)劑真空鍍膜機通過對處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層偶聯(lián)劑（HMDS），改變了襯底的接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

產(chǎn)品型號：JS-HMDS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-12-19
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產(chǎn)品詳情

疏水處理蒸鍍機程控偶聯(lián)劑真空鍍膜機的作用

通過對處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層偶聯(lián)劑（HMDS），改變了襯底的接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

遵循相關(guān)國家標準、行業(yè)標準、地方標準等標準、規(guī)范

滿足標準：ISO9001質(zhì)量體系標準以及相關(guān)的國家標準、行業(yè)標準、以及設備制造商的規(guī)范。

疏水處理蒸鍍機程控偶聯(lián)劑真空鍍膜機的功能

序號	功能	技術(shù)參數(shù)
1.	尺寸	內(nèi)腔尺寸（深寬高）： ≥300×300×300（mm），多尺寸可選，設備采用小型一體化設計，可放置于桌面。
2.	材質(zhì)	外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用 316L 級不銹鋼，擱板層數(shù)≥2層。
3.	溫度范圍	RT+10-200℃，波動度≤±0.5。
4.	潔凈度	class 100，設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境。
5.	電源及總功率	AC 220V±10% / 50HZ，總功率：2.5KW。
6.	控制儀表	人機界面，可控制HMDS藥液添加時間。
7.	真空泵	防反油旋片真空泵或無油泵，真空度：≤1torr，
8.	保護裝置	超溫保護，漏電保護等。
9.	HMDS泄露報警	配有HMDS實時監(jiān)測裝置，具有報警提示功能。

該系統(tǒng)不僅適用于傳統(tǒng)的硅基集成電路制造，在第三代半導體（如SiC、GaN）、封裝（TSV、Fan-Out）、以及Micro-LED巨量轉(zhuǎn)移等新興領(lǐng)域，其粘附促進能力同樣展現(xiàn)出巨大潛力。穩(wěn)定的表面處理是這些技術(shù)實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的基石。適用于半導體晶圓制造廠（Foundry）、集成電路設計公司的工藝研發(fā)部門、MEMS制造企業(yè)、光罩生產(chǎn)、化合物半導體（如GaN， SiC）器件制造商、科研院所和高校的微納加工實驗室。封裝（AP）廠商、LED制造商、微流控芯片研發(fā)公司等。

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